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華卓精科產品獲中國專利銀獎

發布人:北京華卓精科科技股份有限公司 發布時間:2019-01-04 瀏覽次數:2242

日前,由國家知識產權局與世界知識產權組織共同主辦的中國專利獎頒獎大會在北京舉行,清華大學聯合開發區企業北京華卓精科科技股份有限公司申報的“采用氣浮平面電機的硅片臺雙臺交換系統”(ZL200910172949.9)專利,被授予第二十屆中國專利銀獎。




作為中國自主創新的風向標,中國專利獎是業內公認的中國高級別的專利獎項,至今已成功舉辦二十屆,該獎項的專業性和權威性獲得聯合國世界知識產權組織(WIPO)認可。中國專利獎評選不僅強調專利技術先進性和專利運用情況,而且更側重對社會效益和行業的影響力,對入選產品的市場地位和綜合實力有著極為嚴格的要求。清華大學聯合華卓精科申報的該項專利能夠獲獎,是對雙方技創新能力和科技成果應用能力的認可。

該發明專利提供的氣浮平面電機的硅片臺雙臺交換系統,具有兩個結構相同的分別工作于預處理工位和曝光工位的硅片臺,采用平面電機和氣浮結構進行驅動和支承。相對于傳統的單一硅片臺驅動系統,大幅縮短了對準、硅片形貌測量等準備工作所花費的時間,提高了工作效率;而相對于傳統的雙硅片臺驅動系統,本發明專利由于采用氣浮平面電機進行驅動,簡化了系統結構,降低了系統負載,提高了控制精度;該發明解決了提高硅片臺運動速度、加速度和運動定位精度過程中出現的多項技術難題。


光源、曝光光學系統和硅片臺合稱光刻機中的三大核心子系統。硅片臺的速度和精度對于光刻機的產率、分辨率和套刻精度都有重要影響。雙硅片臺技術作為當今主流光刻機的必備技術,是國產光刻機產品化所必須攻克的核心技術之一。

氣浮平面電機專利技術的應用為國產光刻機硅片臺實現技術跨越打下了堅實的基礎,采用本專利技術方案的雙硅片臺樣機在精度方面達到了荷蘭ASML同一代次產品的技術指標,填補了國內空白,獲得了應用單位的好評。

清華大學與華卓精科組成的專利聯盟共同構建了專利布局和保護體系,自2009年以來,以光刻機雙硅片臺技術為核心,獲國內授權發明專利131項,美國授權發明專利18項,PCT專利申請35項,形成了一個有效的、層次分明的專利布局體系。


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